摘 要: | H_2释放反应的过渡金属电催化剂是以含有N_i,Co,Mo,W或V的二组份溶液,通过电镀或化学镀的方法,涂复在金属基体上。活性最大和最稳定的H_2释放电催化剂是基于N_i和Mo的结合,该镀层在80℃,300g/l的NaCl中具有很低的氢过电位。在电解酸性1MMnSO_4制备MnO_2的过程中,以Fe的基体,电镀或化学镀N_i-Mo或Co-W等电催化剂,在30℃.D=12.5mA/Cm~2下。可降低氢过电位0.40-0.60V,而以T_i为基体电镀或化学镀N_i-Mo或Co-W等电催化剂,在80℃.D=12.5mA/cm~2下可降低氢电位0.60~1.10V,在金属基体上电催化剂的厚度为2~6 um,耐腐蚀性能好。
|