|
|||||
|
|
| 铜及其合金常温化学抛光 | |
| 引用本文： | 刘万方,陆崇敦.铜及其合金常温化学抛光[J].电镀与精饰,1996,18(4):35-36. |
| 作者姓名： | 刘万方 陆崇敦 |
| 作者单位： | 同济大学如皋测试仪器厂 |
| 摘 要： | 介绍的工艺彻底革除了传统配方，完全没有硝酸或双氧水存在进行化学抛光，配方简便，工艺稳定，操作安全，成本低廉。 |
| 关 键 词： | 铜 化学抛光 发泡剂 镀合金 电镀 |
| 本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录！ | |
|
||||||||||||||||||||||
|
||||||||||||||||||||||
|
||||||||||||||||||||||
|
|
|
|
| 设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏 |
|
Copyright©北京勤云科技发展有限公司 京ICP备09084417号 |