熔剂性氧化物对方石英生成的影响 |
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引用本文: | 谢建国,钱端芬,蔡海龙,李勇.熔剂性氧化物对方石英生成的影响[J].电瓷避雷器,1987(6). |
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作者姓名: | 谢建国 钱端芬 蔡海龙 李勇 |
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作者单位: | 湖南大学,湖南大学,湖南大学,湖南大学 |
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摘 要: | 研究了K_2O+Na_2O对瓷坯中形成方石英的影响。通过实验发现,当瓷坯中K_2O+Na_2O<3.6%、SiO_2>65%时,在烧成温度下,都能形成一定量的方石英,且K_2O+Na_2O含量越少,形成的方石英就越多。在一定范围内,随着方石英含量的增多,瓷质机械强度提高。作者分析了上述实验结果;阐述了我国发展方石英质电瓷的意义;并指出了生产方石英质电瓷的适宜成分。
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