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梭式氮化窑用Si_3N_4-SiC匣钵砖用后分析
引用本文:李勇,王佳平,朱晓燕,薄钧,张建芳.梭式氮化窑用Si_3N_4-SiC匣钵砖用后分析[J].耐火材料,2010,44(4).
作者姓名:李勇  王佳平  朱晓燕  薄钧  张建芳
作者单位:1. 北京科技大学,材料科学与工程学院,北京,100083
2. 中钢集团耐火材料有限公司,河南洛阳,471039
摘    要:利用XRD、SEM和EDAX对在梭式氮化窑中使用1年后的反应烧结Si3N4-SiC匣钵砖内外侧进行了分析。结果表明:在匣钵外侧(氧化气氛),匣钵砖表面12 mm厚的区域呈完全氧化状态,主要氧化产物是SiO2;紧随其后的12~20 mm区域呈部分氧化状态,氧化产物主要为Si2N2O及少量SiO2;20 mm以后区域无明显氧化特征。在匣钵内侧(氮气气氛),匣钵砖表面出现了约0.2 mm厚的氧化层,主要氧化产物是SiO2,该SiO2可能是由气态SiO氧化形成的,而气态SiO主要来自SiC的氧化及氮化过程中形成的气态SiO;从显微结构可以看出,SiC颗粒表面氧化明显。

关 键 词:氮化  梭式窑  匣钵砖  反应烧结  Si3N4-SiC  材料

Analysis on used Si3N4-SiC sagger bricks for nitridation shuttle kiln
Abstract:
Keywords:
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