| 空气等离子体刻蚀对金刚石薄膜性能的影响 |
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| 引用本文： | 李德贵,冉均国,廖晓明,苟立,苏葆辉. 空气等离子体刻蚀对金刚石薄膜性能的影响[J]. 微细加工技术, 2006, 0(2): 30-32,48 |
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| 作者姓名： | 李德贵 冉均国 廖晓明 苟立 苏葆辉 |
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| 作者单位： | 四川大学,材料学院,成都,610065 |
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| 摘 要： | 为了提高金刚石薄膜电学和辐射响应性能,在石英钟罩式MPCVD装置中,采用微波空气等离子体刻蚀处理来提高金刚石薄膜的纯度、电阻率和辐射剂量计响应性能,研究了不同的微波功率、气体流量、处理时间对金刚石薄膜电阻率、X光响应的影响,结果表明,空气等离子体中高能、高活性的氧和氮能有效刻蚀薄膜表面的石墨等非金刚石相,提高膜的纯度,使金刚石薄膜的电阻率从1.11×109Ω.cm提高到1.83×1014Ω.cm,提高了5~6个数量级,且处理后的金刚石薄膜X射线响应灵敏度提高了15倍,并获得了最佳的空气等离子体刻蚀条件。空气等离子体刻蚀处理是一种易于掌控的刻蚀方法,可有效提高金刚石薄膜表面质量,且资源丰富,价格便宜。
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| 关 键 词： | 金刚石薄膜 电阻率 等离子体 辐射剂量计 |
| 文章编号： | 1003-8213(2006)02-0030-03 |
| 修稿时间： | 2005-09-21 |
Influence of Air Plasma Treatment on the Performance of Diamond Films |
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| LI De-gui,RAN Jun-guo,LIAO Xiao-ming,GOU Li,SU Bao-hui. Influence of Air Plasma Treatment on the Performance of Diamond Films[J]. Microfabrication Technology, 2006, 0(2): 30-32,48 |
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| Authors: | LI De-gui RAN Jun-guo LIAO Xiao-ming GOU Li SU Bao-hui |
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| Keywords: | CVD |
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