| 离子束辅助薄膜沉积 |
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| 引用本文： | 张宇峰,张溪文,任兆杏,韩高荣. 离子束辅助薄膜沉积[J]. 材料导报, 2003, 17(11): 40-43 |
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| 作者姓名： | 张宇峰 张溪文 任兆杏 韩高荣 |
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| 作者单位： | 1. 浙江大学硅材料国家重点实验室,杭州,310027
2. 中国科学院等离子体物理研究所,合肥,230031 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金，60006003， |
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| 摘 要： | 离子束辅助沉积(IBAD)是在气相沉积的同时辅以离子束轰击的薄膜制备方法，可在低温下合成致密、均匀的薄膜。介绍了IBAD技术的概况，列举了具体应用领域，描述了射频ICP离子源辅助电子束蒸发，最后对IBAD的前景加以评论。
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| 关 键 词： | 离子束辅助薄膜沉积 IBAD 薄膜制备 等离子体 光学性能 |
Ion Beam Assisted Thin Film Deposition |
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| ZHANG Yufeng ZHANG Xiwen REN Zhaoxing HAN Gaorong. Ion Beam Assisted Thin Film Deposition[J]. Materials Review, 2003, 17(11): 40-43 |
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| Authors: | ZHANG Yufeng ZHANG Xiwen REN Zhaoxing HAN Gaorong |
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| Abstract: | Ion beam assisted deposition (IBAD) is a method of thin film deposition which can produce compact and uniform thin films at low temperatures. This paper reviews the current status of IBAD,describes some of its application fields introduces RF-ICP beam assisted electron beam evaporation and points out the prospect of IBAD technology. |
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| Keywords: | ion beam assisted deposition thin film inductive coupling plasma |
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