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纯铁中的氢致微观缺陷和氢-缺陷系统的正电子寿命
作者姓名:曹必松  郁伟中  熊家炯  常香荣  田中卓
作者单位:清华大学(曹必松,郁伟中,熊家炯),北京钢铁学院(常香荣),北京钢铁学院(田中卓)
摘    要:几十年来,人们对金属的氢致损伤问题的研究主要集中于金属的宏观力学性能和半微观性能。本文用正电子湮没技术研究氢对金属中小到原子尺度的微观结构的影响。 选用纯度99.99%的铁样品八对,经840℃、1.5小时真空退火后电解充氢,充氢电流密度分别为0、2、4、8、16、32、64、256(mA/cm~2),放置19小时后在室温下测量各样品的正电子寿命谱,实验结果用Positronfit程序进行三寿命分量的自由拟合,结果发现,所有充氢样品的平均正电子寿命τ_M和第二寿命成份的相对强度I_2都大于未充氢样品,并且随着充氢电流密度的增大而增大,说明铁中的氢可以引起微观缺陷浓度的显著增大。根据第二寿命成份的寿命值I_2(230~270ps),可以推知新增加的缺陷主要是各种空位,位错和微孔洞。

关 键 词:正电子湮没  金属  氢脆
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