| 工艺条件对镁合金微弧氧化陶瓷层孔隙率的影响 |
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| 引用本文： | 李淑华,张龙,谭成文. 工艺条件对镁合金微弧氧化陶瓷层孔隙率的影响[J]. 硅酸盐通报, 2009, 28(Z1) |
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| 作者姓名： | 李淑华 张龙 谭成文 |
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| 作者单位： | 1. 解放军军械工程学院,石家庄,050003
2. 北京理工大学材料科学与工程学院,北京,100081 |
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| 摘 要： | 利用微弧氧化技术在AZ91D镁合金表面原位生长陶瓷膜,通过调节电解液浓度、控制起弧电压,以探索减少陶瓷层中孔洞及孔径的工艺方法.结果表明:选择合适的电解液的浓度可以减少陶瓷层中孔隙,控制微弧氧化过程中的起弧电压也可以减少陶瓷层中的孔隙和孔径.
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| 关 键 词： | 镁合金 微弧氧化 陶瓷层 孔隙 |
Effect of Electrolyte Concentration and Striving Voltage on Pore Rate of Ceramic Film by Micro-arc Oxidation |
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| LI Shu-hua,ZHANG Long,TAN Cheng-wen. Effect of Electrolyte Concentration and Striving Voltage on Pore Rate of Ceramic Film by Micro-arc Oxidation[J]. Bulletin of the Chinese Ceramic Society, 2009, 28(Z1) |
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| Authors: | LI Shu-hua ZHANG Long TAN Cheng-wen |
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