| 直流溅射沉积纳米晶氧化镍薄膜及电化学性能 |
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| 引用本文： | 蔡羽,仝俊利,张宏斌,赵胜利,祝要民.直流溅射沉积纳米晶氧化镍薄膜及电化学性能[J].金属热处理,2008,33(8). |
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| 作者姓名： | 蔡羽 仝俊利 张宏斌 赵胜利 祝要民 |
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| 作者单位： | 河南科学大学信息管理研究所 河南洛阳471003;河南科学大学材料科学与工程学院,河南,洛阳,471003 |
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| 基金项目： | 河南科技大学人才科研基金项目
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河南科技大学青年科研基金项目 |
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| 摘 要： | 采用直流溅射并结合热处理工艺制备氧化镍薄膜,利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、能谱仪(EDX)考察退火温度对薄膜结构、形貌和组成的影响,并通过恒流充放电技术初步考察薄膜的电化学性能.结果表明,在400～500 ℃退火温度下制备了表面光滑、结构致密的NiO薄膜;随着退火温度的升高,薄膜的晶粒尺寸逐渐增大,晶形趋于完整;其中,500 ℃下退火2 h获得的NiO薄膜具有良好的电化学循环稳定性,有望成为高性能的全固态薄膜锂电池阳极材料.
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| 关 键 词： | 氧化镍薄膜 直流溅射 电化学性能 |
Preparation and electrochemical properties of NiO thin film deposited by DC sputtering |
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| CAI Yu,TONG Jun-li,ZHANG Hong-bin,ZHAO Sheng-li,ZHU Yao-min.Preparation and electrochemical properties of NiO thin film deposited by DC sputtering[J].Heat Treatment of Metals,2008,33(8). |
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| Authors: | CAI Yu TONG Jun-li ZHANG Hong-bin ZHAO Sheng-li ZHU Yao-min |
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