米曲霉外切β-D-氨基葡萄糖苷酶活性部位研究 |
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引用本文: | 李冬霞,夏文水.米曲霉外切β-D-氨基葡萄糖苷酶活性部位研究[J].食品工业科技,2010,31(10):200-202. |
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作者姓名: | 李冬霞 夏文水 |
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摘 要: | 为了解米曲霉外切β-D-氨基葡萄糖苷酶(GlcNase)的结构特点,采用焦碳酸二乙酯(DEPC)和N-溴代琥珀酰亚胺(NBS),分别对GlcNase分子中的组氨酸(His)残基和色氨酸(Trp)残基进行化学修饰。DEPC修饰结果表明,有1分子His残基位于GlcNase的活性部位;NBS修饰结果表明,Trp残基处于GlcNase的活性部位,且至少有1分子Trp残基位于GlcNase活性部位的底物结合部位。
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关 键 词: | β-D-氨基葡萄糖苷酶 化学修饰 活性部位 |
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