米曲霉外切β-D-氨基葡萄糖苷酶活性部位研究

为了解米曲霉外切β-D-氨基葡萄糖苷酶（GlcNase）的结构特点,采用焦碳酸二乙酯（DEPC）和N-溴代琥珀酰亚胺（NBS）,分别对GlcNase分子中的组氨酸（His）残基和色氨酸（Trp）残基进行化学修饰。DEPC修饰结果表明,有1分子His残基位于GlcNase的活性部位;NBS修饰结果表明,Trp残基处于GlcNase的活性部位,且至少有1分子Trp残基位于GlcNase活性部位的底物结合部位。