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| 单晶硅表面无掩膜极微细加工成形的研究 | |
| 引用本文： | 何友义,徐盛林.单晶硅表面无掩膜极微细加工成形的研究[J].新技术新工艺,2003(5):15-17. |
| 作者姓名： | 何友义 徐盛林 |
| 作者单位： | 1. 广东番禺理工学院,511483 2. 武汉江汉大学,430056 |
| 摘 要： | 对单晶硅表面进行极微细加工中，直接用摩擦力显微镜机构(FFM)进行机械加工，然后用KOH溶液对加工基片腐蚀，发现被加工部位能形成凸台，对影响凸台成形的各种因素进行了试验研究，并介绍了这种新式成形工艺的应用实例。 |
| 关 键 词： | 单晶硅 掩膜 极微细加工 FFM 腐烛 摩擦力显微镜机构 微电子技术 |
Ultramicro-formation on Surface of Single Crystal Silicon Without Masking |
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| Abstract: | |
| Keywords: | FFM |
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