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| 第十九讲 真空溅射镀膜 | |
| 作者姓名： | 张以忱 |
| 作者单位： | 东北大学; |
| 摘 要： | 正(1)溅射原子的能量与角分布入射离子能量大约在100~500 eV之间时,靶上溅射出来的粒子绝大部分是靶材的单原子态,离化状态仅占1%左右。如果入射离子的能量很高,会溅射出较多的复合粒子。由于溅射粒子是与具有几百至几千电子伏特能量的正离子交换动能后飞溅出来的,所以溅射粒子的能量分布必定与靶材种类、入射离子的种类和能量以及溅射粒子逸出的方向有关。通常 |
| 关 键 词： | 入射离子 千电子伏特 溅射现象 复合粒子 子逸 单原子 角分布 产额 靶材 原子数 |
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