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| 占空比对磁控溅射TiAlN薄膜性能影响的实验研究 | |
| 作者姓名： | 孙智慧 钱锋 肖玮 张莉 杨翰林 |
| 作者单位： | 哈尔滨商业大学包装科学与工程技术实验室;深圳市天星达真空镀膜设备有限公司; |
| 基金项目： | 黑龙江省自然科学基金(ZD201106);哈尔滨市科技项目(2014RFXXJ057);深圳市科技研发资金(CXZZ20120614105631748) |
| 摘 要： | 采用中频孪生磁控溅射技术,通过调整薄膜沉积过程中占空比大小,制备TiAlN薄膜。并对不同占空比条件下制备的TiAlN薄膜的表面形貌、膜厚、硬度与耐腐蚀性能进行测试与分析,得出占空比变化对磁控溅射TiAlN薄膜性能的影响。 |
| 关 键 词： | 占空比 磁控溅射 TiAlN 性能 |
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