| 背散射法测定低能氩离子对金的溅射率 |
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| 引用本文： | 明嘉增,陈国明,周祖尧,任琮欣,杨絜,傅新定,朱德彰,曹德新.背散射法测定低能氩离子对金的溅射率[J].核技术,1987(9). |
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| 作者姓名： | 明嘉增 陈国明 周祖尧 任琮欣 杨絜 傅新定 朱德彰 曹德新 |
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| 作者单位： | 中国科学院上海冶金研究所
(明嘉增，陈国明，周祖尧，任琮欣，杨絜，傅新定)，中国科学院上海原子核研究所
(朱德彰)，中国科学院上海原子核研究所(曹德新) |
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| 摘 要： | 本文用背散射方法测定了300—1200eV不同能量的氩离子对金的溅射率。实验测得的背散射能谱用两种不同的方法(能量损失和面积法)处理,结果表明,用背散射法测得金的溅射率与G.K.Wehner用称重法测定的数据很接近,其与入射离子能量的关系为Y∝E~(0.4)。
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| 关 键 词： | 背散射 低能溅射率 |
Measurement of Au sputtering yield with low energy Ar ion by backscattering |
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| Hu Jiazeng Chen Guoming Zhou ZuyaoRen Congxin Yang Jie Fu Xinding.Measurement of Au sputtering yield with low energy Ar ion by backscattering[J].Nuclear Techniques,1987(9). |
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| Authors: | Hu Jiazeng Chen Guoming Zhou ZuyaoRen Congxin Yang Jie Fu Xinding |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | backscattering low energy sputtering yield |
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