| 多弧离子镀膜真空清洗工艺的改进 |
| |
| 引用本文： | 陈建国,尹瑞洁,刘垣,王向丽.多弧离子镀膜真空清洗工艺的改进[J].热加工工艺,2001,1(1):53. |
| |
| 作者姓名： | 陈建国 尹瑞洁 刘垣 王向丽 |
| |
| 作者单位： | 1. 华中科技大学 材料学院,
2. 武汉市第一轻工业 学校, |
| |
| 摘 要： | 1 原工艺及存在的问题传统的多弧离子镀膜工艺为 :碱性溶液热浴清洗以去除矿、植物油污→清水冲洗→碱性溶液超声清洗以去除固体油污→无水乙醇或丙酮脱水→吹干后尽快装入真空室→将真空室抽真空至 7× 10 -3 Pa,通入 0 .5～ 0 .7Pa氩气 ,点燃纯 Ti靶 ,工件负偏压为 - 70 0 V,靶电流为 50～ 70 A,离化的 Ti离子对带负电位的工件进行表面轰击清洗的同时并对工件进行加热 ,然后将负偏压降至 - 2 0 0 V左右 ,通入反应气体 N2 沉积约 1h。实践表明 ,原工艺中的化学清洗很难彻底消除工件表面的含油层 ,且经化学清洗之后的工件表面还会留下…
|
| 文章编号： | 1001-3814(200 1)01-0053-01 |
| 修稿时间： | 2000年11月14 |
Improvement of Multi-are
Ion-plating Film Vacuum Cleanning Technology |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | |
| 本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录！ |
|
