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Ru (dip ) 2+3 络合物氧敏感膜的光降解特性研究
引用本文:杨建华,侯宏,王磊. Ru (dip ) 2+3 络合物氧敏感膜的光降解特性研究[J]. 传感技术学报, 2002, 15(1): 19-23
作者姓名:杨建华  侯宏  王磊
作者单位:1. 西北工业大学自动控制系,西安,710072
2. 西北工业大学应用物理系,西安,710072
3. 同济大学中德学院,上海,200092
摘    要:氧指示剂的光降解是影响荧光猝灭氧传感器光稳定性的主要因素.本文研究了Ru(dip)+{2+}-3络合物氧敏感膜光降解模型,给出了敏感膜光降解速率与激励光波长、强度及膜环境温度的依赖关系.

关 键 词:荧光猝灭  氧敏感膜  光降解  钌络合物
文章编号:1005-9490(2002)01-0019-05
修稿时间:2001-07-02

Study of Photobleaching of Ru(dip) 2+3 BasedOxygen Sen s itiveMembrane
YA N G J ianhu,H OU H ing,W A N G L ei. Study of Photobleaching of Ru(dip) 2+3 BasedOxygen Sen s itiveMembrane[J]. Journal of Transduction Technology, 2002, 15(1): 19-23
Authors:YA N G J ianhu  H OU H ing  W A N G L ei
Abstract:Pho tob leach ing of oxygen sen sit ive memb rane is the key facto r to inf luence the pho to stab iliza2t ion of the f luo rescence quench ing2based oxygen sen so rs. U sing laser sou rce and homemade heater con t ro lcircu it, w e study the pho tob leach ing model and invest igate the characters of w avelength2dependance, in2ten sity2dependance and temperatu re2dependance of Ru (dip ) 2+3 based oxygen sen sit ive memb rane.
Keywords:
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