| 前进中的曝光技术 |
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| 引用本文： | 陈江红,陈阳. 前进中的曝光技术[J]. 电子工业专用设备, 2004, 33(12): 66-68 |
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| 作者姓名： | 陈江红 陈阳 |
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| 作者单位： | 中国电子科技集团公司第四十八研究所,长沙,410111;中国电子科技集团公司第四十八研究所,长沙,410111 |
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| 摘 要： | 简述了曝光的历史和发展趋势及当前的技术状态和技术难点,指出了将来的发展思路。
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| 关 键 词： | 曝光技术 电子束 超大规模集成电路 |
| 文章编号： | 1004-4507-(2004)12-0066-03 |
| 修稿时间： | 2004-11-06 |
Lithography on the Move |
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| CHEN Jiang-hong,CHEN Yang. Lithography on the Move[J]. Equipment for Electronic Products Marufacturing, 2004, 33(12): 66-68 |
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| Authors: | CHEN Jiang-hong CHEN Yang |
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| Abstract: | This article briefly describes history, trend, current technology conditions and difficulties. And development thought in the future is also pointed. |
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| Keywords: | lithography technology EBL VLSI |
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