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大直径SI-GaAs中的位错和微缺陷
引用本文:赵彦桥 刘彩池 郝秋艳 孙卫忠. 大直径SI-GaAs中的位错和微缺陷[J]. 半导体学报, 2007, 28(Z1): 133-136
作者姓名:赵彦桥 刘彩池 郝秋艳 孙卫忠
作者单位:赵彦桥(河北工业大学信息功能材料研究所,天津,300130);刘彩池(河北工业大学信息功能材料研究所,天津,300130);郝秋艳(河北工业大学信息功能材料研究所,天津,300130);孙卫忠(河北工业大学信息功能材料研究所,天津,300130)
基金项目:国家自然科学基金(批准号:60276009)和河北工业大学博士科研启动基金资助项且
摘    要:利用化学腐蚀法对直径150mm LEC SI-GaAs单晶片进行腐蚀,并用金相显微镜对腐蚀后的样品进行检测.在样品中发现了不同形貌的位错和微缺陷,其中球形微缺陷和胞状位错尤为常见.本文对样品中缺陷的类型、密度和分布等情况进行了描述和讨论.

关 键 词:SI-GaAs  化学腐蚀法  位错  微缺陷
文章编号:0253-4177(2007)S0-0133-04
修稿时间:2006-12-12

Dislocations and Microdefects in Large Diameter SI-GaAs
Abstract:
Keywords:
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