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Nios II在同位素测厚仪数据采集中的应用
引用本文:高富强,高福兵.Nios II在同位素测厚仪数据采集中的应用[J].电子器件,2007,30(5):1692-1695.
作者姓名:高富强  高福兵
作者单位:1. 重庆大学ICT研究中心,重庆,400030
2. 重庆大学自动化学院,重庆,400030
摘    要:同位素测厚仪由放射源、探测器、控制仪表三部分组成.介绍了一种以Nios II软核处理器(通用RISC嵌入式处理器)为核心的新型控制仪表.使用Nios II软核处理器取代传统控制仪表中的单片机处理器来实现数据采集与处理控制,采集频率达到100MHz,对多种被测对象(钢板、铝板等)的厚度测量误差不超过0.5%,从而进一步提高控制仪表的采集速率、使用性和稳定性.

关 键 词:测厚仪  Nios  II软核处理器  数据采集  厚度测量
文章编号:1005-9490(2007)05-1692-04
修稿时间:2006年12月30

Application of Nios II in Data Acquisition of Isotope Thickness Measurement Instrument
GAO Fu-qiang,GAO Fu-bing.Application of Nios II in Data Acquisition of Isotope Thickness Measurement Instrument[J].Journal of Electron Devices,2007,30(5):1692-1695.
Authors:GAO Fu-qiang  GAO Fu-bing
Abstract:
Keywords:
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