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氧化锌薄膜的p型掺杂研究现状
引用本文:袁宁一 李金华 范丽宁 周懿. 氧化锌薄膜的p型掺杂研究现状[J]. 江苏工业学院学报, 2005, 17(4): 54-57
作者姓名:袁宁一 李金华 范丽宁 周懿
作者单位:江苏工业学院功能材料实验室,江苏常州213016
摘    要:ZnO薄膜作为一种多用途的光电材料,一直受到国内外学术界的广泛关注。为了开发ZnO短波长光电器件,首要解决的关键问题是氧化锌的P型掺杂。综述了目前国际上常用的氧化锌P型掺杂方法,对不同方法制备的P型ZnO薄膜的性能进行了分析比较。

关 键 词:氧化锌薄膜 P型掺杂 空穴载流子浓度 迁移率
文章编号:1005-8893(2005)04-0054-04
收稿时间:2005-04-26
修稿时间:2005-04-26

Investigation of p-Type Doping in Zinc Oxide Thin Films
YUAN Ning-yi, LI Jin-hua, FAN Li-ning, ZHOU Yi. Investigation of p-Type Doping in Zinc Oxide Thin Films[J]. Journal of Jiangsu Polytechnic University, 2005, 17(4): 54-57
Authors:YUAN Ning-yi   LI Jin-hua   FAN Li-ning   ZHOU Yi
Affiliation:Laboratory of Functional Materials, Jiangsu Polytechnic University, Changzhou 213016, China
Abstract:
Keywords:ZnO thin film   p-type doping   hole concentration   mobility
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