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Ultra-Thin Body SOI MOSFET交流特性分析和结构优化
引用本文:田豫,黄如.Ultra-Thin Body SOI MOSFET交流特性分析和结构优化[J].半导体学报,2005,26(1):120-125.
作者姓名:田豫  黄如
作者单位:北京大学微电子学研究所,北京100871
基金项目:国家自然科学基金;国家重点基础研究发展计划(973计划)
摘    要:针对沟道长度为50nm的UTB SOI器件进行了交流模拟工作,利用器件主要的性能参数,详细分析了UTB结构的交流特性.通过分析UTB SOI器件的硅膜厚度、侧墙宽度等结构参数对器件交流特性的影响,对器件结构进行了优化.最终针对UTB SOI MOSFET结构提出了一种缓解速度和功耗特性优化之间矛盾的方法,从而实现了结构参数的优化选取,使UTB SOI MOSFET器件的应用空间更为广泛.

关 键 词:交流特性  模拟
文章编号:0253-4177(2005)01-0120-06
修稿时间:2003年11月27日

AC Performance Analysis and Structure Optimization of Ultra-Thin Body SOI MOSFET's
Tian Yu and Huang Ru.AC Performance Analysis and Structure Optimization of Ultra-Thin Body SOI MOSFET''''s[J].Chinese Journal of Semiconductors,2005,26(1):120-125.
Authors:Tian Yu and Huang Ru
Abstract:
Keywords:UTB  MOSFET
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