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混合电子束与离子束曝光系统
引用本文:J.R.A.Cleaver ,H.Ahmed ,姜波.混合电子束与离子束曝光系统[J].微细加工技术,1985(4).
作者姓名:J.R.A.Cleaver  H.Ahmed  姜波
摘    要:在扫描束微细加工工艺中,包括抗蚀剂曝光,直接无掩模离子注入和微蚀刻加工,离子和电子起着互补的作用。一台单一的扫描束机,其离子束和电子束如能准确聚焦、相互精确对准是较为有益的。离子束和电子束应有共轴和短距离高分辨率透镜聚焦,这种要求可通过单静电透镜、组合磁和静电透镜得到满足。本文考虑了这些透镜以及组成这些透镜的整个探针形成系统。

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