混合电子束与离子束曝光系统 |
| |
引用本文: | J.R.A.Cleaver
,H.Ahmed
,姜波.混合电子束与离子束曝光系统[J].微细加工技术,1985(4). |
| |
作者姓名: | J.R.A.Cleaver H.Ahmed 姜波 |
| |
摘 要: | 在扫描束微细加工工艺中,包括抗蚀剂曝光,直接无掩模离子注入和微蚀刻加工,离子和电子起着互补的作用。一台单一的扫描束机,其离子束和电子束如能准确聚焦、相互精确对准是较为有益的。离子束和电子束应有共轴和短距离高分辨率透镜聚焦,这种要求可通过单静电透镜、组合磁和静电透镜得到满足。本文考虑了这些透镜以及组成这些透镜的整个探针形成系统。
|
本文献已被 CNKI 等数据库收录! |
|