| 退火处理对TiNi合金钽镀层微观组织结构的影响 |
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| 引用本文： | 成艳,蔡伟,李洪涛,郑玉峰,赵连城.退火处理对TiNi合金钽镀层微观组织结构的影响[J].材料工程,2004(7):44-46,50. |
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| 作者姓名： | 成艳 蔡伟 李洪涛 郑玉峰 赵连城 |
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| 作者单位： | 哈尔滨工业大学材料科学与工程学院材料物理与化学系,哈尔滨,150001 |
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| 摘 要： | 采用多弧离子镀的方法在TiNi形状记忆合金表面镀覆了厚度为3μm的钽镀层,并对其进行了不同温度的真空退火处理.通过X射线衍射(XRD)研究发现,未经退火的镀层是由不稳定的β-Ta组成,分别经过700, 800, 900℃,1h退火后转变为α-Ta.透射电子显微镜(TEM)的观察发现,采用多弧离子镀的方法可以在TiNi合金表面得到纳米尺寸的β-Ta镀层.在700℃退火时可以得到由40 nm左右的微晶和150 nm左右的较大晶粒混合而成的α-Ta.当退火温度为900℃时,镀层主要由尺寸较大而且均匀的α-Ta组成.
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| 关 键 词： | 形状记忆合金 离子镀 钽 镀层 真空退火处理 TiNi Alloys 合金表面 镀层 微观 组织结构 影响 Coatings Tantalum Microstructure Annealing Treatment 均匀 纳米尺寸 退火温度 混合 大晶粒 微晶 电子显微镜 透射 转变 |
| 文章编号： | 1001-4381(2004)07-0044-03 |
Effects of Annealing Treatment on the Microstructure of Tantalum Coatings on TiNi Alloys |
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| CHENG Yan,CAI Wei,LI Hong-tao,ZHENG Yu-feng,ZHAO Lian-cheng.Effects of Annealing Treatment on the Microstructure of Tantalum Coatings on TiNi Alloys[J].Journal of Materials Engineering,2004(7):44-46,50. |
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| Authors: | CHENG Yan CAI Wei LI Hong-tao ZHENG Yu-feng ZHAO Lian-cheng |
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| Keywords: | shape memory alloy ion plating tantalum coating |
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