| Pb（Zr_（0．52）Ti_（0．48））O_3铁电薄膜的脉冲准分子激光沉积 |
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| 引用本文： | 郑立荣,陈逸清,许华平,辛火平,宋世庚,林成鲁. Pb（Zr_（0．52）Ti_（0．48））O_3铁电薄膜的脉冲准分子激光沉积[J]. 功能材料与器件学报, 1995, 0(2) |
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| 作者姓名： | 郑立荣 陈逸清 许华平 辛火平 宋世庚 林成鲁 |
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| 作者单位： | 中国科学院上海冶金研究所信息功能材料国家重点实验室 |
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| 摘 要： | 用ＡｒＦ脉冲准分子激光在ＳＯＩ和Ｐｔ／ＳＯＩ衬底上沉积了Ｐｂ（Ｚｒ，Ｔｉ）Ｏ＿３铁电薄膜，并用快速退火进行热处理。ｘ射线衍射、卢瑟辐背散射等分析表明：所结晶的薄膜是以（１００）和（１１０）为主要取向的多晶膜，且结晶情况与热处理温度和时间密切相关；ＰＺＴ薄膜呈现铁电性，其剩余极化Ｐｒ＝１５μｃ／ｃｍ￣２，矫顽电场Ｅｃ＝５０ｋＶ／ｃｍ；并且具有较高的介电常数和较高的电阻率。
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| 关 键 词： | PZT铁电薄膜，脉冲激光沉积，快速退火 |
RAPID THERMAL ANNEALING AND CHARACTERISTICS OF LASER ABLATED FERROELECTRIC Pb(Zr,Ti) O_3 THIN FILMS |
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| ZHENG Lirong,CHEN Yiqing,XU Huaping,XIN Huoping,SONG Shigeng and LIN Chenglu. RAPID THERMAL ANNEALING AND CHARACTERISTICS OF LASER ABLATED FERROELECTRIC Pb(Zr,Ti) O_3 THIN FILMS[J]. Journal of Functional Materials and Devices, 1995, 0(2) |
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| Authors: | ZHENG Lirong CHEN Yiqing XU Huaping XIN Huoping SONG Shigeng LIN Chenglu |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | PZT ferroelectric thin film laser ablation rapid thermal annealingPACC:8115 7780 7340Q |
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