| 应用于太阳电池的单晶硅上化学镀镍工艺 |
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| 引用本文： | 周春兰,刘维,王文静,李海玲,赵雷,刁宏伟.应用于太阳电池的单晶硅上化学镀镍工艺[J].太阳能学报,2010,31(5). |
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| 作者姓名： | 周春兰 刘维 王文静 李海玲 赵雷 刁宏伟 |
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| 作者单位： | 中国科学院电工研究所,北京,100190 |
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| 基金项目： | 国家重点基础研究发展(863)计划 |
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| 摘 要： | 研究了在P型单晶硅上扩散的N区发射极上选择性化学镀镍工艺,获得了较为优化的化学镀工艺过程,得到了均匀致密的镀层。其中针对单晶硅表面的特点,采取了浓酸浸泡和HF处理以及氯化钯的活化方法,使得镀层质量得以提高。进行了合金化处理温度对合金层的电阻率影响的研究,结果发现在N_2气氛下330℃的热处理将会促进具有最低方块电阻的Ni-Si合金的形成。在方块电阻为45Ω/□的发射极上,化学镀后得到了方块电阻为2Ω/□的Ni-Si合金层。
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| 关 键 词： | 单晶硅 电接触 化学镀 镍 |
ELECTROLESS NICKEL PLATING ON SINGLE-CRYSTAL SILICON FOR SOLAR CELLS APPLICATIONS |
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| Zhou Chunlan,Liu Wei,Wang Wenjing,Li Hailing,Zhao Lei,Diao Hongwei.ELECTROLESS NICKEL PLATING ON SINGLE-CRYSTAL SILICON FOR SOLAR CELLS APPLICATIONS[J].Acta Energiae Solaris Sinica,2010,31(5). |
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| Authors: | Zhou Chunlan Liu Wei Wang Wenjing Li Hailing Zhao Lei Diao Hongwei |
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