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电沉积Ni-S合金硫含量的影响因素
引用本文:刘芳,何捍卫,周科朝,袁铁锤,刘红江,李军. 电沉积Ni-S合金硫含量的影响因素[J]. 粉末冶金材料科学与工程, 2005, 10(1): 60-64
作者姓名:刘芳  何捍卫  周科朝  袁铁锤  刘红江  李军
作者单位:1. 中南大学,粉末冶金国家重点实验室,长沙,410083
2. 中船重工集团公司七一八研究所,邯郸,056027
基金项目:国家高技术研究发展计划(863计划)
摘    要:用电沉积法制备了Ni S合金电极, 研究了电流密度、镀液温度、镀液pH值、电沉积时间、硫脲浓度对镀层硫含量的影响; 测试了不同硫含量的极化曲线; 并用XRD、SEM对镀层进行了表征。结果表明硫含量随着电流密度、pH值的增高而降低, 随着镀液温度的升高、电沉积时间增长而增高; 在硫脲浓度为100 g/L时硫含量最高。硫含量在12.5%~16.5%时, Ni S合金电极析氢电位较低。所获得的镀层有Ni3S2 活性成分, 并有部分非晶态。镀层经电解后, 变得更细, 更均匀。

关 键 词:Ni-S合金  硫含量  析氢电位
文章编号:1673-0224(2005)01-060-05
修稿时间:2004-09-06

Dependences of sulfur content during electro-deposition of Ni-S alloys
LIU Fang,HE Han-wei,ZHOU Ke-chao,YUAN Tie-chui,LIU Hong-jiang,LI Jun. Dependences of sulfur content during electro-deposition of Ni-S alloys[J]. materials science and engineering of powder metallurgy, 2005, 10(1): 60-64
Authors:LIU Fang  HE Han-wei  ZHOU Ke-chao  YUAN Tie-chui  LIU Hong-jiang  LI Jun
Abstract:
Keywords:Ni-S alloy  sulfur content  hydrogen-evolution overpotential
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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