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基于功率谱密度分析真空吸盘对加工KDP晶体表面的影响
引用本文:陈珊珊,徐敏. 基于功率谱密度分析真空吸盘对加工KDP晶体表面的影响[J]. 激光与光电子学进展, 2011, 0(9)
作者姓名:陈珊珊  徐敏
作者单位:复旦大学光科学与工程系;
基金项目:上海市引进技术的吸收与创新项目(2010CH-007)资助课题
摘    要:由于KDP(KH2PO4)晶体硬度低的特性,在利用单点金刚石切削技术对其进行加工的过程中,所使用的真空吸盘夹具会在其加工表面产生周期性波纹。周期性波纹在强激光非线性效应的作用下,不但会严重影响输出光束的质量,甚至还会破坏光学元件。因此,利用功率谱密度检测KDP晶体的加工表面,分析误差源,并指导加工工艺的改进。最后得出结论:在利用单点金刚石切削技术加工KDP晶体时,应根据不同的加工方式选择不同形状的真空吸槽作为夹具,尽量避免在垂直切削方向上使用真空吸槽吸附晶体,以减小吸槽的吸附力对晶体加工表面的影响。

关 键 词:光学制造  KDP晶体  真空吸盘  功率谱密度  表面波纹度  

Analysis on Influence of Vacuum Chuck on Machined Surface of KDP Crystal Using Power Spectral Density
Chen Shanshan Xu Min. Analysis on Influence of Vacuum Chuck on Machined Surface of KDP Crystal Using Power Spectral Density[J]. Laser & Optoelectronics Progress, 2011, 0(9)
Authors:Chen Shanshan Xu Min
Affiliation:Chen Shanshan Xu Min(Department of Optics Science and Engineering,Fudan University,Shanghai 200433,China)
Abstract:
Keywords:optical fabrication  KDP crystal  vacuum chuck  power spectral density  surface waviness  
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