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镁合金基体上镍磷镀层的退除
引用本文:彭金云,周建芳,邹惠民,林伯成.镁合金基体上镍磷镀层的退除[J].电镀与涂饰,2005,24(7):33-34.
作者姓名:彭金云  周建芳  邹惠民  林伯成
作者单位:桂林工学院材料与化学工程系,桂林,541004;衡阳无线电总厂,衡阳 421001
摘    要:提出了一种采用HF与HNO3退除镁合金上化学镀镍磷镀层的方法。测试了不同HF与HNO3组合的退镀液的性能,并分别测定了不同HF与HNO3含量对退镀效果的影响。结果表明,退镀液中含有一定含量的F^-,可保护基体不受腐蚀,其生成的保护膜主要为MgF2。当退镀液中ω(HF):ω(HNO3):ω(H2O)为4:3:3时,效果最好。由于HF有剧毒,因此操作过程应采取相应的防护措施。

关 键 词:镁合金  化学镀镍磷  镀层退除
文章编号:1004-227X(2005)07-0033-02

Stripping of Ni-P coating on Mg alloy substrate
PENG Jin-yun,ZHOU Jian-fang,ZOU Hui-min,LIN Bo-cheng.Stripping of Ni-P coating on Mg alloy substrate[J].Electroplating & Finishing,2005,24(7):33-34.
Authors:PENG Jin-yun  ZHOU Jian-fang  ZOU Hui-min  LIN Bo-cheng
Abstract:
Keywords:Mg alloy  electroless nickel and phosphorus plating  coating stripping  
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