| 电镀纳米镍缺陷的正电子研究 |
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| 引用本文： | 吴秋允 初业隆. 电镀纳米镍缺陷的正电子研究[J]. 核技术, 1998, 21(4): 213-216 |
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| 作者姓名： | 吴秋允 初业隆 |
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| 作者单位： | 中国科学院金属研究所，辽宁省材料与氢重点实验室 |
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| 摘 要： | 用正电子寿命谱研究了电镀纳米镍（～２０ｎｍ）中的微观缺陷，分析了缺陷中氢对正电子寿命的影响，实验结果表明，界面存在单空位大小的自由体积，６－１０个空位大小的自由体积和微孔洞三类缺陷，纳米镍在５００℃真空退火２ｈ后，中间寿命和最长寿命的强度不受影响，表明中间寿命和最长寿命所对应的缺陷具有很好的热稳定性。
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| 关 键 词： | 正电子湮没 电镀纳米镍 微观缺陷 纳米材料 |
Defect study of electrodeposited nanocrystalline Ni by positronannihilation technique |
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| WU Qiuyun CHU Yelong XIONG Liangyue SUN Xiukui HU Zhuangqi. Defect study of electrodeposited nanocrystalline Ni by positronannihilation technique[J]. Nuclear Techniques, 1998, 21(4): 213-216 |
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| Authors: | WU Qiuyun CHU Yelong XIONG Liangyue SUN Xiukui HU Zhuangqi |
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| Keywords: | Positron annihilation Electrodeposited nano-Ni Micro-defect |
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