| Ni-Mo合金电沉积层的X-射线光电子能谱研究 |
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| 引用本文： | 黎向锋,左敦稳,王珉. Ni-Mo合金电沉积层的X-射线光电子能谱研究[J]. 电镀与精饰, 1999, 21(4) |
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| 作者姓名： | 黎向锋 左敦稳 王珉 |
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| 作者单位： | 南京航空航天大学机电工程学院,南京,210016 |
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| 摘 要： | 利用X-射线光电子能谱对Ni-Mo沉积层表层中Ni、Mo的存在形式进行了分析,并对其表面进行了Ar+离子刻蚀深度分析.结果表明:Ar+离子未溅射时,沉积层中的Ni和Mo分别以Ni(OH)2和MoO3(或MoO2-4)形式存在:Ar+离子溅射3 min后,沉积层中的Ni和Mo分别以NiO和MoO2形式存在;Ar+离子溅射15 min后,沉积层中的Ni和Mo分别以单质Ni和单质Mo形式存在.
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| 关 键 词： | X-射线光电子能谱 沉积层 |
X-Ray Photoelectron Spectroscopic Study on Electrodeposited Nickel-Molybdenum Film |
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| Li Xiangfeng,Zuo Dunwen,Wang Min. X-Ray Photoelectron Spectroscopic Study on Electrodeposited Nickel-Molybdenum Film[J]. Plating & Finishing, 1999, 21(4) |
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| Authors: | Li Xiangfeng Zuo Dunwen Wang Min |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Ni-Mo |
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