| 退火温度对室温沉积的ITO薄膜与p-Si接触性能的影响 |
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| 引用本文： | 吴斯泰,沈鸿烈,李金泽,姚函妤,沈小亮. 退火温度对室温沉积的ITO薄膜与p-Si接触性能的影响[J]. 半导体光电, 2016, 37(5): 666-670,675. DOI: 10.16818/j.issn1001-5868.2016.05.014 |
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| 作者姓名： | 吴斯泰 沈鸿烈 李金泽 姚函妤 沈小亮 |
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| 作者单位： | 南京航空航天大学材料科学与技术学院,江苏省能量转换材料与技术重点实验室,南京210016;南京航空航天大学材料科学与技术学院,江苏省能量转换材料与技术重点实验室,南京210016;常州大学江苏省光伏科学与工程协同创新中心,江苏常州213164 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金项目(61176062);江苏省前瞻性联合创新项目(BY2013003 08);江苏高校优势学科建设工程资助项目和中央高校基本科研业务费项目(3082015NJ20150024) |
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| 摘 要： | 室温下用射频磁控溅射法在玻璃和p型单晶硅衬底上沉积ITO薄膜,并对其进行不同温度的退火处理.采用XRD衍射仪测试薄膜结晶性,用紫外-可见分光光度计和霍尔效应测试试样光电性能,用吉时利2400表测试ITO/p-Si接触的I-V曲线,用线性传输线模型测试比接触电阻.研究结果表明:室温下沉积的ITO薄膜与p-Si形成欧姆接触,但比接触电阻较大.退火处理可以进一步优化接触性能,200℃退火后试样保持欧姆接触且比接触电阻下降为8.8×10-3 Ω·cm2.随着退火温度进一步升高到300℃,比接触电阻达到最低值2.8×10-3 Ω·cm2,但接触性能变为非线性.
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| 关 键 词： | ITO薄膜 欧姆接触 p型单晶硅 退火 |
| 收稿时间： | 2016-01-20 |
Effect of Annealing Temperature on Contact Property between ITO Film Prepared at Room Temperature and p-Si |
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| WU Sitai,SHEN Honglie,LI Jinze,YAO Hanyu,SHEN Xiaoliang. Effect of Annealing Temperature on Contact Property between ITO Film Prepared at Room Temperature and p-Si[J]. Semiconductor Optoelectronics, 2016, 37(5): 666-670,675. DOI: 10.16818/j.issn1001-5868.2016.05.014 |
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| Authors: | WU Sitai SHEN Honglie LI Jinze YAO Hanyu SHEN Xiaoliang |
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| Keywords: | ITO film Ohmic contact p-type silicon annealing |
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