水溶性干膜显像点的测试 |
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引用本文: | Karl H.Dietz,佟彤,曹友新. 水溶性干膜显像点的测试[J]. 印制电路信息, 2001, 0(3): 26-28 |
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作者姓名: | Karl H.Dietz 佟彤 曹友新 |
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作者单位: | 东莞生益电子有限公司 |
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摘 要: | 技术论谈栏目的读者已经习惯于在本栏内寻找一些PCB制造的神秘细节,而不注意一些已被广泛谈及且非常流行的工业和科技动态,不过显像点这个题目倒是适合于被归人那些可以制造或毁掉一个线路板工厂的神秘细节中去。 水溶性干膜对过显影是敏感的,已曝光的干膜在显影剂中滞留太长时间将受到化学药剂侵蚀而部分分解,因此显影时间是需要限定的。直接和显影时间有
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关 键 词: | 显像点 显像点测试 |
Checking the Break-point in Aqueous Development of Dry Film Resist |
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