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| 新型氧敏CeO2—x薄膜的制备及结构研究 | |
| 作者姓名： | 杜新华 刘振祥 |
| 作者单位： | [1]北京科技大学材料物理系 [2]中国科学院物理研究所 |
| 摘 要： | 用射频磁控溅射法制备了ＣｅＯ２－ｘ高温氧敏薄膜。通过改变Ｏ２／Ａｒ比，制备出不同组分和结构的ＣｅＯ２－ｘ薄膜。用Ｃｅ３ｄ的ＸＰＳ谱了Ｃｅ２＋的浓度。ＸＲＤ和ＡＦＭ分析表明，薄膜经空气中高温退火后，形成了立方体ＣａＦ２型小晶粒，晶粒大小明显依赖于退火条件和膜厚。 |
| 关 键 词： | 二氧化铈 薄膜 结构 显微照片 制备 氧敏 |
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