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| 软X射线投影光刻用反射式光学系统的设计 | |
| 引用本文： | 金友.软X射线投影光刻用反射式光学系统的设计[J].光机电信息,1999(7). |
| 作者姓名： | 金友 |
| 摘 要： | 1 第一代系统设计的目标和限制各种类型的光学设计系统中具有很大像场的系统对用于第一代投影光刻是很有用的。为了获得未来半导体器件制造要求的高密集度的电路集成。光学系统的分辨率要达到0.1μm。工作波长选定为131nm,因为在这个波长范围内业已证实能镀出高反射率(约60％)的M_0/Si多层膜。对于在13nm波长处能分辨0.1μm的光学系统,要求最小数值孔径(NA)为0.08。对于圆形通光口径 |
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