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| 物理气相沉积技术的新进展 | |
| 引用本文： | 李健,韦习成.物理气相沉积技术的新进展[J].材料保护,2000,33(1):91-94. |
| 作者姓名： | 李健 韦习成 |
| 作者单位： | [1]武汉材料保护研究所 [2]上海大学材料学院 |
| 摘 要： | 近年来，物理气相沉积技术的应用对象不断扩展，处理时基体进一步降低，新型镀层，复合镀层，多层镀层大量出现，并通过制备提高磨擦学性能，作者对其发展趋势进行了探讨。 |
| 关 键 词： | PVD技术 薄膜 摩擦 磨损 物理气相沉积 |
| 文章编号： | 1001-1560(2000)01-0091-04 |
New Advance in PVD |
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| LI Jian,WEI Xi-cheng.New Advance in PVD[J].Journal of Materials Protection,2000,33(1):91-94. | |
| Authors: | LI Jian WEI Xi-cheng |
| Abstract: | |
| Keywords: | |
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