| 源气体流量比对a_C:F:N薄膜的影响 |
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| 引用本文： | 张云芳.源气体流量比对a_C:F:N薄膜的影响[J].材料科学与工程学报,2006,24(4):611-613. |
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| 作者姓名： | 张云芳 |
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| 作者单位： | 江苏科技大学数理学院,江苏,镇江,212003 |
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| 摘 要： | 以CF4、CH4和N2的混合气体为源气体,利用rf-PECVD沉积技术制备了氮掺杂氟化非晶碳(a_C:F:N)薄膜,研究了源气体流量比对a_C:F:N薄膜沉积速率和结构的影响.用椭圆偏振光谱测试仪测量了薄膜厚度,结合沉积时间计算了薄膜的沉积速率(在18～21nm/min之间),随流量比增大,薄膜的沉积速率先升高后降低.FTIR光谱分析表明,随流量比增大,薄膜中含F量降低,交联结构增强.Raman光谱分析发现,薄膜中的碳原子由sp2和sp3两种组态的混合结构组成,并进一步证明,随流量比增大,薄膜中sp2键含量增加,交联程度增强.
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| 关 键 词： | 流量比 氮掺杂氟化非晶碳薄膜 拉曼光谱 |
| 文章编号： | 1673-2812(2006)04-0611-03 |
| 修稿时间： | 2005年10月20 |
Influence of Source Gas Flow Ratios on a_ C:F:N Films |
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| ZHANG Yun-fang.Influence of Source Gas Flow Ratios on a_ C:F:N Films[J].Journal of Materials Science and Engineering,2006,24(4):611-613. |
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| Authors: | ZHANG Yun-fang |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | flow ratio a_-C:F:N films Raman spectrum |
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