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简化再生的动态N-沟道随机存储器
引用本文:张廷军,史忠植,苏光荣,陈树楷.简化再生的动态N-沟道随机存储器[J].计算机研究与发展,1975(6).
作者姓名:张廷军  史忠植  苏光荣  陈树楷
摘    要:目前采用的N-沟道硅栅工艺的新的单元的设计,使得MOS随机存储器容量更大,密度更高,可以与磁心和双极型存储器相竞争。对计算机设计者得到的好处是N-沟道比P沟道随机存储器速度较快,而与同样大小的双极型存储器一样快。特别是简化再生只用0.01%的占空比可对整个存储器全部再生,使存储器能无形再生,无需存储器占线时间,并且在某些应用中,存储器全然不需要再生;存储单元的设计,使之功耗减小到磁心或双极的一小部分,去掉了时序和控制所必需的设备,诸如寻址再生、维持控制或预充,这样,大大降低了整个系统的成本(N-沟道MOS随机存储器每位的成本与P-沟道的相同)。

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