| 离子束电子束多功能材料表面处理设备 |
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| 引用本文： | 黄宁康,王明华,申勇,王贤恩,郭华聪.离子束电子束多功能材料表面处理设备[J].核技术,1988(8). |
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| 作者姓名： | 黄宁康 王明华 申勇 王贤恩 郭华聪 |
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| 作者单位： | 四川大学原子核科学技术研究所
(黄宁康，王明华，申勇，王贤恩)，四川大学原子核科学技术研究所(郭华聪) |
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| 基金项目： | 核工业部基金，国家教委基金 |
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| 摘 要： | 本设备由以下系统组成:注入系统,有溅射离子源及不对称三电极加速管,能量50keV,流强4mA(N~+);电子束系统,能量45keV,功率密度10~2—10~6W/ cm~2;配备微机程序的束偏摆装置;靶材易换的磁控溅射靶;可作旋转、平移、升降等机械运动的高真空工作室(φ500×1600mm)。可进行离子注入及混合、电子束上釉及合金化、磁控溅射离子镀等工艺。该设备为材料表面改性和薄膜制备提供了新的手段。
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| 关 键 词： | 离子注入 磁控溅射沉积 电子束表面复层 |
An ion and electron beams multifunction equipment for materials surface treating |
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| Huang Ningkang Wang Minghua Shen YongWang Xianen Guo Huacong.An ion and electron beams multifunction equipment for materials surface treating[J].Nuclear Techniques,1988(8). |
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| Authors: | Huang Ningkang Wang Minghua Shen YongWang Xianen Guo Huacong |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | ion implantation magnetron sputtering deposition electron beam coating |
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