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| 一种保持真空室真空度稳定的控制系统 | |
| 作者姓名： | 程健 邬钦崇 |
| 作者单位： | 中科院等离子体物理研究所 |
| 基金项目： | “863”计划支持项目 |
| 摘 要： | 本项工作是配套“８６３”项目金刚石镀膜装置而进行的。由于沉积金刚石膜的时间长达几十个小时，而真空室真空度的稳定性对成膜质量的好坏有很大的影响，所以保持真空度的稳定将成为一个关键性的技术问题。本文简要地介绍了利用单片机实现真空度稳定控制的工作原理，阐述了软、硬件的具体实现方法。该控制系统可按需要进行真空度的调节和设置，与任何有稳定真空度要求的真空装置相配套 |
| 关 键 词： | 金刚石膜 单片机 真空度稳定 |
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