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超高纯Al-0.5%Cu合金溅射靶材微观组织与织构的EBSD分析
引用本文:黄光杰,陈江波,黄天林,邹彬.超高纯Al-0.5%Cu合金溅射靶材微观组织与织构的EBSD分析[J].电子显微学报,2010,29(1):89-92.
作者姓名:黄光杰  陈江波  黄天林  邹彬
作者单位:重庆大学材料科学与工程学院,重庆,400044
摘    要:用EBSD技术对超高纯(99.9995%以上)Al-0.5%Cu合金靶材冷轧及退火过程中的微观组织、织构及取向差进行了表征,分析了合金靶材多向冷轧、退火过程中微观组织、织构及取向差等的演变规律。

关 键 词:EBSD  溅射靶材  织构  再结晶

EBSD analysis of microstructure and texture of ultra-high pure Al-0.5%Cu alloy sputtering target
HUANG Guang-jie,CHEN Jiang-bo,HUANG Tian-lin,ZOU Bin.EBSD analysis of microstructure and texture of ultra-high pure Al-0.5%Cu alloy sputtering target[J].Journal of Chinese Electron Microscopy Society,2010,29(1):89-92.
Authors:HUANG Guang-jie  CHEN Jiang-bo  HUANG Tian-lin  ZOU Bin
Affiliation:Department of Materials and Engineering;Chongqing University;Chongqing 400044;China
Abstract:EBSD analysis the microstructure,texture and misorientation distribution of ultra-high pure aluminum sputtering target was investigated by EBSD method.
Keywords:EBSD  sputtering target  texture  recrystallization  
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