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| pH值和热处理对氧化亚铜薄膜结构和光学性能的影响 | |
| 引用本文： | 杨静静,张雪,张晨纯,李秋旭,汪琼,王龙成.pH值和热处理对氧化亚铜薄膜结构和光学性能的影响[J].浙江理工大学学报,2014(7). |
| 作者姓名： | 杨静静 张雪 张晨纯 李秋旭 汪琼 王龙成 |
| 作者单位： | 浙江理工大学材料工程中心; |
| 摘 要： | 在三电极电化学池中,以ITO透明导电玻璃作为工作电极,在硫酸铜-乳酸钠体系中采用恒电位电化学沉积法制备Cu2O薄膜,并讨论pH值和热处理对Cu2O薄膜结构和光学性能的影响。利用X射线衍射仪(XRD),场发射扫描电镜(FESEM)和紫外-可见光光谱仪(UV-vis)表征Cu2O薄膜物相结构、表面形貌以及光学性能。结果表明:沉积溶液的pH值和热处理均可提高Cu2O薄膜结晶性能,随着pH值的增加Cu2O薄膜的禁带宽度降低,热处理对Cu2O薄膜的禁带宽度影响不大。 |
| 关 键 词： | 电化学沉积法法 CuO薄膜 pH值 热处理 禁带宽度 |
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