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| CdTe基底表面的STM研究 | |
| 作者姓名： | 赵谢群 |
| 摘 要： | 用扫描遂穿显微镜(STM)研究了用于 MBE 生长的 CdTe 基底表面,发现其表面不平整度取决于不同的表面制备步骤。机械抛光试样的表面粗糙度大约为100nm,这是由抛光粉决定的。用化学-机械抛光法制备的样品表面粗糙度下降至60nm。经腐蚀抛光后的 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
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