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高纯超细α-Al_2O_3粉的研究
作者姓名:蔡继铎
作者单位:机械电子工业部43所
摘    要:制造Al_2O_3陶瓷基片和A1N粉均要求Al_2O_3粉粒度小于1μm。制造99.5%Al_2O_3陶瓷及高导热A1N粉,要求Al_2O_3粉的纯度在99.9%以上,而制造95%Al_2O_3陶瓷及一般用途A1N粉,则要求Al_2O_3的纯度在99%以上。本研究采用铝盐高温化学分解法制备的α-Al_2O_3粉,分别达到了上述两类不同的用途对Al_2O_3纯度的要求,粒度为0.5μm。

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