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| 离子渗碳薄膜的新进展 | |
| 引用本文： | 陆国柱,邹望鉅.离子渗碳薄膜的新进展[J].真空与低温,1986(1). |
| 作者姓名： | 陆国柱 邹望鉅 |
| 摘 要： | 利用乙烯作为保护气体,以射频溅射镀膜的方法,在各种表面上形成离子渗碳薄膜是70代末期研制成功的新型镀膜方法。离子渗碳薄膜具有可以进行选择的机械、光学和电学性能。工艺要求和技术条件较为复杂,是大有前途的新型镀膜方法之一。在射频辉光放电或直流辉光放电的时候,等离子使乙烯气体中的碳分裂沉积到镀材的表面后可以形成人造金刚石薄膜。正因为如此,射频离子渗碳技术引起了真空应用工作者的关注 |
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