磁带电镀镍钴磷合金工艺

表文研究了磁带电镀镍钴磷合金工艺,并成功地使用了氮化物镀液,镀液组成和操作条件如下:氯化钴90～100g/L,氯化镍90～100g/L,氯化铵80～100g/L,次亚磷酸钠8～10g/L,减应力剂1.15～0.1g/L,温度(℃)50±1,pH3.3～3.8,D_K0.8～1.2A/dMn~2,时问40min,阳极镍钴合金(Ni:Co=2:8),镀液循环过滤。所得镀层成分,镍约15～17％,钴≥80％,磷3～5％。该电镀工艺经反复试验、研究,镀层质量和磁性能均达到磁栅数显系统的实际使用要求,并且在自行设计的磁带连续电镀自动线上,镀出了商品长磁带,已满足科研和磁栅数显系统生产的需要。