| 中美纳电子技术发展对比研究(续) |
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| 引用本文： | 郭树田. 中美纳电子技术发展对比研究(续)[J]. 微纳电子技术, 2006, 43(9): 405-413,419 |
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| 作者姓名： | 郭树田 |
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| 作者单位： | 中国电子科技集团公司第二十四研究所,重庆,400060 |
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| 摘 要： | 3 中美纳米技术经费支持对比3．1 美国NNI计划出台之前，美国政府对纳米技术研发的投入力度并不算大，如1997年投入约为1．16亿美元，比日本政府的投入（1．20亿美元）稍低，但也比除日和西欧国家之外的其他国家（包括中国、加拿大、澳大利亚、韩国、新加坡以及前苏联各共和国等）政府投入的总和（约0．71亿美元）高得多：NNI计划出台之后，美国政府对纳米技术研发的投入大幅度增加。2001年，美国政府纳米技术研发投入从2000年的2．70亿美元增加到4．22亿美元，净增1．52亿美元，年增幅达56．3％；2002年度美国政府的纳米技术投入预算为5．189亿美元，比2001年度约增长了23％。这种高增幅在美国政府其他方面的预算中并不多见。
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| 关 键 词： | 电子技术 美国政府 纳米技术 NNI计划 日本政府 西欧国家 澳大利亚 政府投入 |
| 文章编号： | 1670-4776（2006）09-0405-09 |
| 收稿时间： | 2006-04-27 |
| 修稿时间： | 2006-04-27 |
Comparison of Nano-Electronic Technology of China and USA (Continued) |
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| GUO Shu-tian. Comparison of Nano-Electronic Technology of China and USA (Continued)[J]. Micronanoelectronic Technology, 2006, 43(9): 405-413,419 |
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| Authors: | GUO Shu-tian |
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| Affiliation: | The 24th Research Institute. CETC, Chongqing 400060, China |
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