| 沉积时间对磁控反应溅射制备TiO2薄膜性能的影响 |
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| 引用本文： | 张文杰,朱圣龙,李瑛,王福会,何红波.沉积时间对磁控反应溅射制备TiO2薄膜性能的影响[J].功能材料,2008,39(11). |
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| 作者姓名： | 张文杰 朱圣龙 李瑛 王福会 何红波 |
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| 作者单位： | 沈阳理工大学,环境与化学工程学院,辽宁,沈阳,110168;中国科学院金属研究所,金属腐蚀与防护国家重点实验室,辽宁,沈阳,110016;中国科学院金属研究所,金属腐蚀与防护国家重点实验室,辽宁,沈阳,110016;中国科学院沈阳应用生态研究所,辽宁,沈阳,110016 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目，国家重点基础研究发展计划(973计划)资助项目 |
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| 摘 要： | 应用直流磁控反应溅射法,在玻璃基体上制备了具有光催化活性的TiO2薄膜.TiO2薄膜的厚度随沉积时间的增加而均匀增长.基体温度则在溅射的最初1h很快上升到110℃,溅射7h基体温度不超过130℃.溅射2h得到的是非晶态TiO2薄膜,而溅射3～7h制备的薄膜为锐钛矿型结构.非晶态和小晶粒TiO2薄膜的紫外一可见透射光谱谱带边沿与结晶较好的TiO2薄膜相比有明显的蓝移,薄膜的透射率随沉积时间的增加而下降.钛以四价钛的形式存在于TiO2薄膜中.TiO2薄膜的光催化活性随沉积时间争薄膜厚度的增加而有较大提高.
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| 关 键 词： | 磁控反应溅射 TiO2薄膜 光催化 沉积时间 |
Influence of deposition time on TiO2 photocatalyst films deposited by dc reactive magnetron sputtering |
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