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| 磁控射频溅射法制备光波导薄膜研究 | |
| 引用本文： | 胡雪涛,李佐宜,林更琪,王浩敏,廖红伟. 磁控射频溅射法制备光波导薄膜研究[J]. 光电子技术与信息, 2001, 14(1): 27-29,34 |
| 作者姓名： | 胡雪涛 李佐宜 林更琪 王浩敏 廖红伟 |
| 作者单位： | 华中科技大学电子科学与技术系 |
| 摘 要： | 采用磁控射频溅射法制备了用作光波导器件的玻璃薄膜。通过选取不同的溅射材料，顺不同溅射条件下制备的玻璃薄膜的光学参数进行的测量、比较，并对其作为光波导的性能进行研究，通过理论上推导与计算，得出了在1．55μm窗口下制备光小导器件的玻璃薄膜所应具备的溅射条件。 |
| 关 键 词： | 玻璃薄膜 磁控溅射 光波导 |
Study of the Glass Thin-film Optical Waveguides Deposited by the Reaction Magnetron Sputtering |
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