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磁控射频溅射法制备光波导薄膜研究
引用本文:胡雪涛,李佐宜,林更琪,王浩敏,廖红伟. 磁控射频溅射法制备光波导薄膜研究[J]. 光电子技术与信息, 2001, 14(1): 27-29,34
作者姓名:胡雪涛  李佐宜  林更琪  王浩敏  廖红伟
作者单位:华中科技大学电子科学与技术系
摘    要:采用磁控射频溅射法制备了用作光波导器件的玻璃薄膜。通过选取不同的溅射材料,顺不同溅射条件下制备的玻璃薄膜的光学参数进行的测量、比较,并对其作为光波导的性能进行研究,通过理论上推导与计算,得出了在1.55μm窗口下制备光小导器件的玻璃薄膜所应具备的溅射条件。

关 键 词:玻璃薄膜 磁控溅射 光波导

Study of the Glass Thin-film Optical Waveguides Deposited by the Reaction Magnetron Sputtering
Abstract:
Keywords:
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