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基于L298N芯片对离子渗氮中压强的控制
引用本文:孔中华,孙奉娄,孙南海.基于L298N芯片对离子渗氮中压强的控制[J].现代电子技术,2003(16):89-91.
作者姓名:孔中华  孙奉娄  孙南海
作者单位:中南民族大学,电子信息工程学院,湖北,武汉,430074
摘    要:离子渗氮工艺对炉体内压强的控制要求比较高,本文设计了一种基于L298N芯片驱动直流电动机控制的气体流量控制器,可用于控制反应炉的抽气气体流量,提高了炉体压强控制精度,降低了生产成本。

关 键 词:离子渗氮  L298N  压强控制  延迟电路  化学热处理  气体流量
文章编号:1004-373X(2003)16-089-03
修稿时间:2003年6月13日

Control of Presure in Plasma Nitriding Based on L298N Chip
KONG Zhonghua,SUN Fenglou,SUN Nanhai.Control of Presure in Plasma Nitriding Based on L298N Chip[J].Modern Electronic Technique,2003(16):89-91.
Authors:KONG Zhonghua  SUN Fenglou  SUN Nanhai
Abstract:There is a high demand of pressure control in plasma nitriding technics, so a kind of gas flux controller has been designed which based on chip L298N driving DC electromotor It can be used in controlling outlet gas flux of plasma stove Also it improves the pressure controlling precision, lessens the cost
Keywords:driving circuit  L289N  plasma nitriding  delaying circuit  
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